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11惊动科学院集结专家召开研（第1页）

偌大的实验室内，陷入了一片死寂。

在杨玄到来之前，在项目成立之初，是否会被米国技术封锁的担忧，微电子也曾多次讨论。

陈新龙当时是立项的一方，说白了，他就是带头人。

可现在，被杨玄的一番话，着实打击到了。

“杨……杨总。”

陈新龙还是有些不甘心，神色复杂的道：“我承认，你的那个光刻机设计理念，很有创意，但……要是推翻我们目前的项目，从你的设计理念着手，这需要很长的时间。”

“而且，你的只是镭射光一项技术理念……”

“光刻机的复杂程度，你应该知道，这牵扯到大量的核心技术。”

“如果我们研发组，放弃目前几千万甚至亿的项目，转头重做你的这份设计稿，这恐怕太儿戏了。”

“我也看了，你的设计理念，以12000伏特高压放电将会产生每秒千次的剧烈震动，这时如何使雷射光源能长期稳定的激发，就会是一大技术难题。”

杨玄没反驳，依旧笑吟吟的拉开随身携带的包包。

不紧不慢的取出一份文件，顺手递给了陈新龙，淡淡道：“看一下。”

见状。

陈新龙等人有些错愕，纷纷凑来，翻看着这份文件。

第一眼，眉头拧紧。

再看，神情凝重。

十几秒后，所有人纷纷两眼大睁，满脸惊骇的看向杨玄。

“这就是我来寻找贵公子的投名状。”

杨玄脸的笑意更浓了：“arf光源193n光刻技术，足以制造90n芯片。这同样也不算新技术，米国十年前就已经突破了，但对于现在的我们，非常重要。”

“另外，再告诉你们一件事情，听说过euv吗？沉浸式高端光刻机？”

“这一项技术，到目前为止，还是个概念，但我想告诉你们，已经有人在着手研发了。”

“倭国的小松旗下一家独资公司，已经开始成立研发组，奋战euv沉浸式高端光刻机……”

“而市场目前还仅仅是在90、80n争抢，可我知道，不超过五年，甚至三年，90n光刻技术，就会成为低端技术。”

“euv沉浸式光刻技术一旦成熟，30n以下芯片将不再是难题，甚至10n以下也能制造。”

“请问诸位，以目前魔都微电子的水平，继续走组装生产的路子，如何追赶世界水平，又如何研发出自己的核心技术？”

边听杨玄陈述着，边如痴如醉的琢磨着刚才的那份文件。

简单的一句arf光源193n光刻技术，可他们知道，这是何等的艰难。

不说整个研发团队，就是整个龙国微电子领域的科研工作者，都是做梦也想拿到的技术。

可最关键的，杨玄将光刻机的未来设计理念，从液浸式、沉浸式、干式等多种光刻机分类，详细的罗列出来。

未来的光刻机研发基础，从什么地方着手，争取掌握哪些核心技术，一一陈述在设计稿。

众人傻了。

陈新龙同样也傻了。

涨红着脸，心潮澎湃，再次看向杨玄的时候，已经不是简单的钦佩，而是仰慕，彻彻底底的仰慕。

“杨……杨老师。”

刚想喊杨总，陈新龙赶紧开口：“你这份设计理念，我可不可以发给我的老师。别误会，不是倭国，是我国科学院的老师。”

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